2021년 한·중·일 상표·디자인 공개토론회(forum) 개최-한국, 중국, 일본 특허청이 제시하는 상표와 디자인 제도의 미래

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2021. 6. 14.

2021년 한··일 상표·디자인 공개토론회(forum) 개최-한국, 중국, 일본 특허청이 제시하는 상표와 디자인 제도의 미래

담당부서 상표심사정책과작성일 2021-06-14

 "2021년 한·중·일 상표·디자인 공개토론회(forum) 개최

- 한국, 중국, 일본 특허청이 제시하는 상표와 디자인 제도의 미래 -"

"□  특허청(청장   김용래)은   오는   6월    30일(수)에    「2021년    한·중·일

상표·디자인  포럼」을  온라인으로  개최한다고  밝혔다.

ㅇ  그동안  별도로  운영되던  한·중·일  상표전문가회의와  디자인포럼을 처음으로  통합  개최함으로써  동북아를  대표하는  3국의  상표·디자인

정책의  흐름을  한눈에  파악할  수  있도록  하였다."

"□  이번  포럼에서는  ‘디지털  경제하의  상표와  디자인  보호’를  주제로 디지털  경제를  대비하는  각국의  상표·디자인  제도  변화와  운영 전략에   대해   온라인   포럼을   진행하며,  실시간   질의·응답시간을 통해   300명의   한·중·일   사용자들과   각   특허청이   직접   소통하는 기회도  갖는다.

ㅇ  또한,  싱가포르  지식재산청의  샤먀인  우(Sharmaine  Wu)  국장과 국제상표협회(INTA)  조윤경  변리사도  초청하여  아시아  지식재산

시장의  전략변화에  대해서도  알아본다."

"□  포럼은  화상회의  플랫폼을  통해  진행될  예정으로  참석을  원하는 사용자는  특허청   블로그(https://blog.naver.com/kipoworld2)  또는 네이버폼     링크(naver.me/5cTX8Jqr)를   통해    6월    14일(월)부터 23일(수)까지   신청   할  수  있으며  한국어,  중국어,  일본어가  동시 통역으로  제공된다.

□ 특허청  목성호  상표디자인심사국장은  “최근  일본의  상표법과  중국의 전리법   개정에   따른   상표·디자인   전략을   모색할   수   있는   좋은

기회이므로  관심  있는  분들의  많은  참여를  바란다.”라고  밝혔다."